书 书 书犐犆犛 ７１ ． １００ ． ２０ 犌 ８６ 中华人民共和国国家标准 犌犅 ／ 犜 ３８８６７ — ２０２０ 电子工业用四氯化硅 犛犻犾犻犮狅狀狋犲狋狉犪犮犺犾狅狉犻犱犲犳狅狉犲犾犲犮狋狉狅狀犻犮犻狀犱狌狊狋狉狔 ２０２０  ０７  ２１ 发布 ２０２１  ０２  ０１ 实施 国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 发布书 书 书前 　　 言 　　 本标准按照 ＧＢ ／ Ｔ１．１ — ２００９ 给出的规则起草 。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会 （ ＳＡＣ ／ ＴＣ２０３ ） 提出并归口 。 本标准起草单位 ： 湖北晶星科技股份有限公司 、 湖北省标准化与质量研究院 、 洛阳中硅高科技有限公司 、 唐山三孚电子材料有限公司 、 湖北光谷标准创新科技有限公司 、 广东华特气体股份有限公司 、 浙江西亚特电子材料有限公司 、 上海华爱色谱分析技术有限公司 、 大连大特气体有限公司 、 上海市计量测试技术研究院 、 联雄投资 （ 上海 ） 有限公司 、 随州市信息与标准化所 、 达州市质量技术监督检验测试中心 、 西南化工研究设计院有限公司 。 本标准主要起草人 ： 徐德 、 张国光 、 黄娣 、 刘畅 、 杨剑 、 赵雄 、 楚东旭 、 王春英 、 戴帅 、 张竞 、 黄国菲 、 廖恒易 、 陈艳珊 、 杨利 、 于青玉 、 方华 、 曹作斌 、 曲庆 、 陈鹰 、 李春华 、 黄辉 、 谭鹏程 、 邓远方 、 周鹏云 、 徐龙 、 赵帅德 、 唐霞梅 。 Ⅰ 犌犅 ／ 犜 ３８８６７ — ２０２０ 电子工业用四氯化硅 １ 　 范围 本标准规定了电子工业用四氯化硅的技术要求 、 检验规则 、 试验方法 、 标志 、 包装 、 运输 、 储存及安全的要求 。 本标准适用于工业四氯化硅精制提纯后的电子工业用四氯化硅 。 ２ 　 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的 。 凡是注日期的引用文件 ， 仅注日期的版本适用于本文件 。 凡是不注日期的引用文件 ， 其最新版本 （ 包括所有的修改单 ） 适用于本文件 。 ＧＢ１９０ 　 危险货物包装标志 ＧＢ ／ Ｔ６０２ 　 化学试剂 　 杂质测定用标准溶液的制备 ＧＢ ／ Ｔ３７２３ 　 工业用化学产品采样安全通则 ＧＢ ／ Ｔ４８４２ 　 氩 ＧＢ ／ Ｔ５０９９ 　 钢质无缝气瓶 ＧＢ ／ Ｔ６０４０ 　 红外光谱分析方法通则 ＧＢ ／ Ｔ６６８０ 　 液体化工产品采样通则 ＧＢ ／ Ｔ７１４４ 　 气瓶颜色标志 ＧＢ ／ Ｔ１１４４６．１ — ２０１３ 　 电子级水 ＧＢ１５２５８ 　 化学品安全标签编写规定 ＧＢ ／ Ｔ１６８０４ 　 气瓶警示标签 ＧＢ ／ Ｔ２８７２６ 　 气体分析 　 氦离子化气相色谱法 ＧＢ ／ Ｔ３２５６６ 　 不锈钢焊接气瓶 ＧＢ ／ Ｔ３４９７２ 　 电子工业用气体中金属含量的测定 　 电感耦合等离子体质谱法 ＴＳＧＲ０００６ 　 气瓶安全技术监察规程危险化学品安全管理条例 （ ２００２ 年 １ 月 ２６ 日中华人民共和国国务院令第 ３４４ 号公布 ， ２０１１ 年 ２ 月 １６ 日国务院第 １４４ 次常务会议修订通过 ） 特种设备安全监察条例 （ ２００９ 版 ， 中华人民共和国国务院令第 ５４９ 号 ） ３ 　 技术要求 四氯化硅的技术要求应符合表 １ 的规定 ， 光纤用四氯化硅还应增加相对透过率的要求 ， 相对透过率的要求应符合表 ２ 的规定 。 １ 犌犅 ／ 犜 ３８８６７ — ２０２０ 表 １ 　 技术要求 项目 光纤用 半导体用 四氯化硅 （ ＳｉＣｌ ４ ） 纯度 （ 体积分数 ）／ １０ －２ ≥ ９９．９ ≥ ９９．９９ 三氯氢硅 （ ＳｉＨＣｌ ３ ） 含量 （ 体积分数 ）／ １０ －６ ≤ ４００ ≤ ２５ 二氯硅烷 （ ＳｉＨ ２ Ｃｌ ２ ） 含量 （ 体积分数 ）／ １０ －６ ≤ ４００ ≤ ２５ 甲基二氯硅烷 （ ＳｉＣｌ ２ ＣＨ ４ ） 含量 （ 体积分数 ）／ １０ －６ ≤ ２００ ≤ ５０ 金属元素及 其他元素含量 （ 硼 ＋ 铝 ）（ Ｂ＋Ａｌ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） — ≤ ０．１０ （ 磷 ＋ 砷 ）（ Ｐ＋Ａｓ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） — ≤ ０．３０ 镓 （ Ｇａ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） — ≤ ０．５０ 锑 （ Ｓｂ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） — ≤ ０．５０ 铟 （ Ｉｎ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） — ≤ ０．５０ 钙 （ Ｃａ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 铬 （ Ｃｒ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 铁 （ Ｆｅ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 钾 （ Ｋ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 钠 （ Ｎａ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 镍 （ Ｎｉ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 钼 （ Ｍｏ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 锰 （ Ｍｎ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 铜 （ Ｃｕ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 镉 （ Ｃｄ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 钴 （ Ｃｏ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 锌 （ Ｚｎ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 钒 （ Ｖ ） 含量 ／（ μ ｇ ／ ｋｇ ） ≤ １．００ ≤ ０．５０ 表 ２ 　 相对透过率技术要求 红外吸收峰位置 ／ ｃｍ －１ 对应的物质或官能团 相对透过率 ／ ％ ３６６６±４ ＳｉＣｌ ３ ＯＨ ≥ ９８ ３１００ ～ ３０２０ 芳香 ＣＨ ≥ ９９ ２９７０ ～ ２９２５ 脂肪族 ＣＨ ≥ ９８ ２８６０ ～ ２８３０ ＨＣｌ ≥ ９８ ２３３８±４ ＣＯ ２ ≥ ９８ ２２９５±４ Ｓｉ （ ＮＣＯ ） ４ ≥ ９８ ２２５７±４ ＳｉＨＣｌ ３ ≥ ９８ ２０２３±４ Ｓｉ （ ＣＨ ３ ） Ｃｌ ３ ≥ ９８ １５４０±４ Ｓｉ ２ ＯＣｌ ６ ≥ ９８ ２ 犌犅 ／ 犜 ３８８６７ — ２０２０ ４ 　 检验规则 ４ ． １ 　 抽样和判定 四氯化硅产品应逐一检验并验收 。 当检验结果有任何一项指标不符合第 ３ 章技术要求时 ， 则判该产品不合格 。 ４ ． ２ 　 采样 ４ ． ２ ． １ 　 四氯化硅采样安全应符合 ＧＢ ／ Ｔ６６８０ 、 ＧＢ ／ Ｔ３７２３ 中的相关规定 。 ４ ． ２ ． ２ 　 测定四氯化硅中的杂质含量时 ， 应液相取样 ， 取样方法参见附录 Ａ 。 ４ ． ３ 　 尾气处理 测定四氯化硅中的杂质含量时 ， 应有四氯化硅尾气处理措施 ， 以防止四氯化硅对环境的污染 。 ５ 　 试验方法 ５ ． １ 　 四氯化硅的含量 四氯化硅纯度以体积分数表示 ， 按式 （ １ ） 计算 ：  ＝ １００ － （  １ ＋  ２ ＋  ３ ） × １０ － ４ ……………………（ １ ） 　　 式中 ：  　 ——— 四氯化硅纯度 （ 体积分数 ）， １０ －２ ；  １ ——— 三氯氢硅含量 （ 体积分数 ）， １０ －６ ；  ２ ——— 二氯硅烷含量 （ 体积分数 ）， １０ －６ ；  ３ ——— 甲基二氯硅烷含量 （ 体积分数 ）， １０ －６ 。 ５ ． ２ 　 三氯氢硅 、 二氯硅烷 、 甲基二氯硅烷含量的测定 按 ＧＢ ／ Ｔ２８７２６ 规定的切割进样的方法测定四氯化硅中的三氯氢硅 、 二氯硅烷 、 甲基二氯硅烷含量 。 预分离柱 ： 长约 ３ｍ 、 内径约 ２ｍｍ 的 ３１６Ｌ 不锈钢管 ， 内装粒径为 ０．１８ｍｍ ～ ０．２５ｍｍ 的 ＨａｙｅｓｅｐＱ （ 一种高分子聚合物 ）， 或其他等效色谱柱 。 色谱柱 ： 长约 ５０ｍ 、 内径 ０．５３ｍｍ 、 内涂聚甲基硅氧烷的毛细柱 ， 或其他等效色谱柱 。 标准样品 ： 组分含量与样品中被测组分含量相近 ， 平衡组分为四氯化硅 。 允许采用其他等效的方法测定四氯化硅中的三氯氢硅 、 二氯硅烷 、 甲基二氯硅烷含量 。 当测定结果有异议时 ， 以本标准规定的方法为仲裁方法 。 ５ ． ３ 　 金属元素及其他元素含量的测定 ５ ． ３ ． １ 　 方法原理 四氯化硅在加热条件下 ， 大量挥发 ， 金属杂质残留于烧杯中 ， 用 ２％ 硝酸溶解 ， 制备成待测样品 。 样品在载气的作用下进入高频等离子体炬焰中 ， 在高温下被充分电离 ， 产生的离子经过离子采集装置后进入质量分离器 ， 根据离子的质荷比进行分离后进入检测器 ， 根据待测元素信号响应值测定含量 。 ５ ． ３ ． ２ 　 环境 溶液的配制 、 稀释及转移均应在洁净度至少为 １０００ 级的超净室或超净台内进行 ， 全部器皿在使用 ３ 犌犅 ／ 犜 ３８８６７ — ２０２０ 前均应在硝酸 （ ５．３．３．３ ） 溶液中浸泡 １２ｈ 以上 。 ５ ． ３ ． ３ 　 试剂和材料 ５ ． ３ ． ３ ． １ 　 试验用水 ： 符合 ＧＢ ／ Ｔ１１４４６．１ — ２０１３ 中 ＥＷ Ⅰ 级的要求 。 ５ ． ３ ． ３ ． ２ 　 氢氟酸 ： 电子级 ， 金属元素含量低于