ICS23.160 J78 中华人民共和国国家标准 GB/T11164—2011 代替GB/T11164—1999 真 空镀膜设备通用技术条件 Vacuumcoatingplantgenericspecification 2011-11-21发布 2012-06-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会发布目 次 前言 Ⅰ ………………………………………………………………………………………………………… 1 范围 1 ……………………………………………………………………………………………………… 2 规范性引用文件 1 ………………………………………………………………………………………… 3 术语和定义 1 ……………………………………………………………………………………………… 4 技术要求 2 ………………………………………………………………………………………………… 5 试验方法 4 ………………………………………………………………………………………………… 6 检验规则 5 ………………………………………………………………………………………………… 7 标志、包装、运输、贮存 5 ……………………………………………………………………………………GB/T11164—2011 前 言 本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准代替GB/T11164—1999《真空镀膜设备通用技术条件》,与GB/T11164—1999相比主要变 化如下: ———为使用方便增加了目次; ———修改了GB/T11164—1999中真空镀膜设备的压力范围,由10-4Pa~10-3Pa修改为10-5Pa~ 10-3Pa; ———修改了GB/T11164—1999表1中镀膜室尺寸分档,增加了300、400、450、1100、1350、2200、 2400、2500、2600、3200十档尺寸,并对带“*”号尺寸优先选用进行了调整; ———修改了GB/T11164—1999表1中镀膜设备的分档,增加了C档镀膜设备,并增加或修改了各 档镀膜设备的极限压力、抽气时间及升压率指标; ———因GB/T11164—1999中部分规范性引用文件已修订,故本标准引用现行标准; ———修改了GB/T11164—1999的4.4.6,用表格的方式规定了设备配套的电器装置中各电气回路 的绝缘电阻值; ———修改了GB/T11164—1999的4.5.4及4.5.12,增加了安全防护内容。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC18)归口。 本标准负责起草单位:北京北仪创新真空技术有限责任公司。 本标准参加起草单位:上海曙光机械制造厂有限公司、兰州真空设备有限责任公司、成都南光机器 有限公司、中国航天科技集团第五研究院第510研究所、上海惠丰石油化工有限公司、沈阳真空技术研 究所。 本标准主要起草人:陈月增、谢钧荣、范立群、孙凯、温发兰、靳毅、刘强、惠进德、王学智。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: ———GB/T11164—1989、GB/T11164—1999。 ⅠGB/T11164—2011 真空镀膜设备通用技术条件 1 范围 本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。 本标准适用于压力在10-5Pa~10-3Pa范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下 简称设备)。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本 文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 GB/T191—2008 包装储运图示标志 GB/T3163—2007 真空技术 术语 GB5226.1—2008 机械电气安全 机械电气设备 第1部分:通用技术条件 GB/T6070—2007 真空技术 法兰尺寸 GB/T13306—2011 标牌 GB/T13384—2008 机电产品包装通用技术条件 GB/T15945—2008 电能质量 电力系统频率偏差 GB18209.1—2010 机械电气安全 指示、标志和操作 第1部分:关于视觉、听觉和触觉信号的 要求 JB/T7673 真空设备型号编制方法 3 术语和定义 GB/T3163—2007界定的以及下列术语和定义适用于本文件。 3.1 极限压力 ultimatepressure 泵在工作时,空载干燥的真空容器逐渐接近、达到并维持稳定的最低压力。 注:单位为帕(Pa)。 3.2 恢复真空抽气时间 pump-downtime 真空系统正常工作时,将空载干燥的镀膜室从大气压(105Pa)抽到规定的工作压力所需要的时间。 注:单位为分钟(min)。 3.3 升压率 rateofpressurerise 将空载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后,停止抽气,在镀膜室内由于漏气或内部放气所 造成的单位时间的升压。 注:单位为帕每小时(Pa/h)。 1GB/T11164—2011 4 技术要求 4.1 设备正常工作条件 4.1.1 环境温度:10℃~35℃。 4.1.2 相对湿度:不大于75%。 4.1.3 冷却水进水温度:不高于25℃。 4.1.4 冷却水质:城市自来水或质量相当的水。 4.1.5 供电电源:380V、三相、50Hz或220V、单相、50Hz(由所用电器需要而定);电压波动范围 342V~399V或198V~231V;根据GB/T15945—2008中的规定,频率偏差限值为±0.5Hz,其频 率波动范围49.5Hz~50.5Hz。 4.1.6 设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书中写明。 4.1.7 设备周围环境整洁,空气清洁,不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的 尘埃或气体存在。 4.2 设备技术参数 4.2.1 设备的主要技术参数应符合表1的规定。 4.2.2 设备的型号应符合JB/T7673的规定。 表1 项次 参 数 名 称 参 数 数 值 1 镀膜室尺寸分档/mm 300*、320、400、450*、500*、600、630、700*、800*、900、1000*、1100*、 1200*、1250、1350、1400、1600*、1800、2000*、2200、2400、2500、2600、3200 2真空 指标分档 A B C 极限压力/Pa ≤5×10-5≤5×10-4≤5×10-3 抽气时间/min(105Pa~2×10-3Pa)≤20(105Pa~7×10-3Pa)≤20(105Pa~7×10-2Pa)≤20 升压率/(Pa/h) ≤2×10-1≤8×10-1≤2.5 3沉积源 指标 沉积源型式、尺寸、 数量及最大耗电功率 4工件架 指标 工件架尺寸及转动 方式 工件烘烤方式及烘 烤温度 5 离子轰击,工件偏压功率 6 膜厚监控方式及控制精度 7 设备控制方式 8 设备最大耗电量根据设计要求 注1:所列镀膜室的几何尺寸,对圆筒式室体为圆筒内径;对箱式室体为箱体内宽度。带“*”号尺寸优先选用,其 他尺寸和其他结构形式的设备可由制造厂参照上述尺寸决定。专用设备由用户与制造厂另订协议。 注2:本尺寸分档作为推荐值,不作考核。 2GB/T11164—2011 4.3 结构要求 4.3.1 设备中的真空管道、静动密封零部件的结构形式和尺寸应符合GB/T6070—2007的规定。 4.3.2 在真空管道及镀膜室上应安装真空测试规管,分别测量各部位的压力。 4.3.3 如果设备的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧安装油蒸气捕集阱。 4.3.4 设备的镀膜室应有观察窗,对在镀膜过程中发生射线的设备,观察窗上应加装防射线镜片。 4.4 制造要求 4.4.1 设备主要零部件制造所用的原材料应符合相应的材料标准的规定,且应具有质量合格证书。如 证书不全或产生疑问时应由制造厂检验部门负责复验。 4.4.2 设备的零部件的机械加工质量及设备的焊接质量均应符合制造厂技术文件的规定。 4.4.3 设备的装配质量应符合制造厂技术文件的规定,装配时对工作中处于真空状态的各零部件表面 应进行有效的真空清洗处理并予以干燥,各运动件装配后应运动灵活平稳。 4.4.4 设备中镀膜沉积源、离子轰击、工件偏压、工件加热、膜厚监控等装置均应逐项调试和联合调试, 性能均应达到设计要求、运行可靠。工件加热过程中设备应能正常运转。 4.4.5 设备所配用的自制或外购的泵、阀、表、计等各类机械、电器元器件都应符合相应产品标准的规 定,并应具有质量合格证书或经制造厂检验部门检验合格后方可使用。 4.4.6 设备配套的电器装置的制造质量应符合制造厂技术文件的规定,并应保证设备运行和操作时的 安全可靠。装置中线路的排布应整齐清晰、便于检修,装置中各电气回路的绝缘电阻值应符合表2的 规定。 表2 电压/kV 0.5 0.5~1 1~3 3~10 绝缘电阻/MΩ ≥2 ≥2.5 ≥3.5 ≥6 4.4.7 设备的外观质量应做到没有非功能性需要的尖角、棱角、凸起及粗糙不平表面。零部件结合面 边沿应整齐匀称,不应有明显错位。金属零件的镀层应牢固,无变质、脱落及生锈等现象。所有紧固件 应有防腐层。设备的涂漆表面应光洁、美观、牢固,无剥落起皮现象。 4.5 安全防护要求 4.5.1 关键部件的水冷系统中应有断水或水压不足的报警装置,并与电源、真空系统、传动系统相关联 部分有联锁保护机构,这些保护机构的动作应灵敏可