(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222741094.0 (22)申请日 2022.10.18 (73)专利权人 无锡市锡斌光电设备有限公司 地址 214000 江苏省无锡市新区江溪街道 坊前新风路15号 (72)发明人 张习兵　邹德明　姚春凤　 (74)专利代理 机构 无锡知之 火专利代理事务所 (特殊普通 合伙) 32318 专利代理师 朱爱进 (51)Int.Cl. B24B 29/02(2006.01) B24B 41/00(2006.01) B24B 57/02(2006.01) B24B 47/12(2006.01) (54)实用新型名称 防止漏液的抛光机 (57)摘要 本实用新型公开了防止漏液的抛光机， 涉及 研磨抛光领域， 包括电机、 抛光盘和用于收集磨 液的旋转水槽； 抛光盘固定设置在电机的转动轴 上； 抛光盘的盘面水平设置； 电机的转动轴旋转 会带动抛光盘转动； 旋转水槽固定设置在抛光盘 上； 旋转水槽会随着抛光盘的转动而转动； 旋转 水槽包括一个开口； 开口所处平面水平设置； 开 口在竖直方向上的高度低于抛光盘盘面所处平 面的高度。 本实用新型提供的防止漏液的抛光 机， 解决了磨液会顺着转轴与研磨箱之间的间隙 漏出的问题， 使得在工件加工过程中， 磨液不会 顺着转轴与研磨箱之间的间隙漏出。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 218082100 U 2022.12.20 CN 218082100 U 1.一种防止漏液的抛光机， 其特征在于， 包括电机、 抛光盘和用于收集磨液的旋转水 槽； 所述抛光盘固定设置在所述电机的转动轴上； 所述抛光盘的盘面朝上并水平设置； 所 述电机的转动轴旋转会带动所述抛光盘转动； 所述旋转水槽 固定设置在所述抛光盘上； 所述旋转水槽会随着所述抛光盘的转动而转 动； 所述旋转水槽包括一个开口； 所述开口所 处平面水平设置； 所述开口所 处平面在竖直方 向上的高度低于所述抛光盘 盘面所处平面的高度。 2.如权利要求1所述的防止漏液的抛光机， 其特征在于， 还包括可以吸水的挡水圈， 所 述挡水圈固定设置在所述 开口上； 所述挡水圈贴靠在所述旋转水槽的内壁上； 所述挡水圈所处位置在竖直方向上高于所 述抛光盘 盘面所处平面的高度； 所述挡水圈组成一个环形， 磨液贴靠着所述旋转水槽的内壁在所述开口处流出至所述 旋转水槽 外部时， 必然会经 过所述挡水圈。 3.如权利要求1所述的防止漏液的抛光机， 其特征在于， 还包括若干球阀； 所述旋转水 槽上设置有 若干排液孔； 每 个所述排液孔上设置有一个所述球阀。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218082100 U 2防止漏液的抛光机 技术领域 [0001]本实用新型 涉及研磨抛光领域， 尤其涉及防止漏液的抛光机 。 背景技术 [0002]抛光机是用于将工件研磨抛光使得工件表面光滑的一种设备； 在对工件进行研磨 抛光时， 需要添加磨液润滑抛光盘与工件防止抛光盘与工件卡住， 使得工件更好 地被抛光。 [0003]现有技术中， 通常设置研磨箱防止磨液流落， 并同时保证磨液的高度 高于抛光盘 所处平面。 如中国专利号为201521080020.0提供的一种光纤研磨抛光机， 其中提到了 “为了 降低转轴23与研磨箱20之间的摩擦阻力， 提升转速效率， 在研磨箱20底部设置一轴承28 ”。 现有技术提出 的方案中， 转轴穿过研磨箱给抛光盘传动， 转轴穿过固定设置的研磨箱给抛 光盘传动， 转轴与研磨箱之间留有间隙保证转轴的正常转动， 抛光盘为了保证转动底面不 与研磨箱接触， 工作时， 磨液会从抛光盘底部处经 过， 顺着转轴与研磨箱之间的间隙漏出。 [0004]如果设置防水的电机设置在研磨箱内， 给研磨盘提供旋转的动能； 一方面防水的 电机价格相较于不防水的电机价格较高， 使用防水电机会增加成本； 另一方面， 研磨箱内会 有工件上研磨后产生的杂质， 这些杂质可能会进入电机内， 对防水电机产生影响。 实用新型内容 [0005]针对上述技术问题， 本实用新型提供的防止漏液的抛光机， 可以防止磨液从给抛 光盘传动的转轴处漏出。 [0006]为实现上述目的， 本实用新型采取的技 术方案为： [0007]本实用新型提供的防止漏液的抛光机， 包括电机、 抛光盘和用于收集磨液的旋转 水槽； 所述抛光盘固定 设置在所述电机的转动轴上； 所述抛光盘的盘面水平设置； 所述电机 的转动轴旋转会带动所述抛光盘转动； 所述旋转水槽固定设置在所述抛光盘上； 所述旋转 水槽会随着所述抛光盘的转动而转动； 所述旋转水槽包括一个开口； 所述开口所处平面水 平设置； 所述 开口在竖直方向上的高度低于所述抛光盘 盘面所处平面的高度。 [0008]本实用新型提供的防止漏液的抛光机， 优选地， 还包括可以吸水的挡水圈， 所述挡 水圈固定设置在所述开口上； 磨液贴靠着所述旋转水槽的内壁在所述开口处经过， 流到贴 靠所述旋转水槽的外壁必然会经 过所述挡水圈。 [0009]本实用新型提供的防止漏液的抛光机， 优选地， 还包括若干球阀； 所述旋转水槽上 设置有若干排液孔； 每 个所述排液孔上设置有一个所述球阀。 [0010]上述技术方案具有如下优点或者有益效果： [0011]本实用新型公开了防止漏液的抛光机， 涉及研磨抛光领域， 包括电机、 抛光盘和用 于收集磨液 的旋转水槽； 所述抛光盘固定设置在所述电机的转动轴 上； 所述抛光盘的盘面 水平设置； 所述电机的转动轴旋转会带动所述抛光盘转动； 所述旋转水槽固定设置在所述 抛光盘上； 所述旋转水槽会随着所述抛光盘的转动而转动； 所述旋转水槽包括一个开口； 所 述开口所 处平面水平设置； 所述开口在竖直方向上的高度低于所述抛光盘盘面所 处平面的说　明　书 1/3 页 3 CN 218082100 U 3