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(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 20212315 0021.6 (22)申请日 2021.12.15 (73)专利权人 惠州锂威 新能源科技有限公司 地址 516100 广东省惠州市博罗县园洲镇 东坡大道欣旺达产业园4号、 5号、 6号、 17号厂房1-4楼、 18号厂房 (72)发明人 张宇 屈永辉 侯杰杰 杨成东 纪荣进 李聪 (74)专利代理 机构 天津市北洋 有限责任专利代 理事务所 12 201 专利代理师 潘俊达 王滔 (51)Int.Cl. B23K 26/70(2014.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种真空吸附载台 (57)摘要 本实用新型属于激光加工技术领域, 具体公 开了一种真空吸附载台, 包括第一基体和第二基 体, 第一基体和第二基体并排设置, 且第一基体 和第二基体 之间设置有用于加工产品的间隙位, 第一基体和第二基体均设置有若干个用于吸附 产品的真空孔。 其间隙位的长度和宽度根据产品 的加工范围来设计, 便于加工产品, 同时能够有 效避免激光加工产品的过程中因操作失误或来 料异常导致激光损伤真空吸附载台的情况发生, 第一基体和第二基体位于产品的非加工区域, 使 得真空孔对产品进行吸附时, 能够避开产品的加 工区域, 避免产品的加工区域因为吸附力过大产 生形变的问题发生, 有效防止加工区域因为变形 引起的激光聚焦的变化, 提高了产品的加工一致 性。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 217045077 U 2022.07.26 CN 217045077 U 1.一种真空吸附载台, 其特 征在于: 包括 第一基体(1); 第二基体(2), 所述第一基体(1)和所述第二基体(2)并排设置, 且所述第一基体(1)和 所述第二基体(2)之间设置有间隙位(3), 所述第一基体(1)和所述第二基体(2)均设置有若 干个用于吸附产品的真空孔(4)。 2.根据权利要求1所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 所述第一基体(1)和所述第 二基体(2)为一体成型。 3.根据权利要求1所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 所述第一基体(1)和所述第 二基体(2)分别设置有通气口(5), 所述 通气口(5)和所述真空孔(4)相互连通。 4.根据权利要求1所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 还包括固定架(6), 所述第一 基体(1)和所述第二基 体(2)分别安装在所述固定架(6)上。 5.根据权利要求4所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 所述固定架(6)为导轨或丝 杆, 所述导轨或丝杆 活动安装有第一固定座(7)和第二固定座(8), 所述第一固定座(7)和所 述第一基 体(1)固定连接, 所述第二固定座(8)和所述第二基 体(2)固定连接 。 6.根据权利 要求1所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 所述间隙位(3)的深度为0.5 ~50mm。 7.根据权利 要求1所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 所述真空孔(4)的孔径为0.2 ~2mm。 8.根据权利要求1所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 若干个所述真空孔(4)呈线 性排列, 相邻的两个所述真空孔(4)之间的距离为1~5m m。 9.根据权利要求1所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 所述第一基体(1)和所述第 二基体(2)的上端面设置有金属涂层。 10.根据权利要求9所述的一种真空吸附载台, 其特征在于: 所述金属涂层为镀铬层、 镀 镍层或镀锌 层。权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 217045077 U 2一种真空吸附载台 技术领域 [0001]本实用新型属于 激光加工技 术领域, 具体涉及一种真空吸附载台。 背景技术 [0002]激光加工具有效率高、 无接触以及环 保等特点在制造加工、 医疗、 艺术等领域发挥 了重要作用。 激光加工中, 尤其是激光清洗、 焊接、 切割以及打孔中往往需要用载台来固定 加工工件, 而在实际加工中难免会因参数设置不合理、 设备运行故障导致激光损伤载台的 情况。 若采用来料检测和管控的方案不仅会增加设备和人工成本, 同时这些措施不一定能 兼容不同来料、 设计的差异, 从而不能完全避免激光加工过程中的载台损伤。 因此, 激光加 工载台的设计就非常重要。 [0003]传统的真空吸附载台为一平面上均匀分布大小尺寸相同的孔来吸附工件, 其优点 是结构简单, 但也存在一些不足: [0004]1、 一些箔材和易变形的材料会因真空吸附受力变形, 在真空孔处凹陷, 因此在激 光加工中会产生聚焦的差异, 导 致加工效果 不一致; [0005]2、 激光加工过程中参数设置错 误或机械故障导 致激光打穿加工件损伤真空载台; [0006]若真空吸附载台表面的镀层磨损或被破坏则需要返修, 增加设备维护时间和成 本。 实用新型内容 [0007]本实用新型的目的在于: 通过提供一种真空吸附载台, 能够避免激光加工过程中 因操作失误或来料异常导 致激光损伤真空吸附载台的情况发生。 [0008]为了实现上述目的, 本实用新型采用以下技术方案: 一种真空吸附载台, 包括第一 基体和第二基体, 所述第一基体和所述第二基体并排设置, 且所述第一基体和所述第二基 体之间设置有间隙位, 所述第一基体和所述第二基体均设置有若干个用于吸附产品的真空 孔。 [0009]进一步地, 所述第一基 体和所述第二基 体为一体成型。 [0010]进一步地, 所述第一基体和所述第二基体分别设置有通气口, 所述通气口和所述 真空孔相互连通。 [0011]进一步地, 还包括固定架, 所述第一基体和所述第二基体分别安装在所述固定架 上。 [0012]进一步地, 所述固定架为导轨或丝杆, 所述导轨或丝杆活动安装有第一固定座和 第二固定座, 所述第一固定座和所述第一基体固定连接, 所述第二固定座和所述第二基体 固定连接 。 [0013]进一步地, 所述间隙位的深度为0.5~5 0mm。 [0014]进一步地, 所述真空孔的孔径为0.2 ~2mm。 [0015]进一步地, 若干个所述真空孔呈线性排列, 相邻的两个所述真空孔之间的距离为1说 明 书 1/4 页 3 CN 217045077 U 3
专利 一种真空吸附载台
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