ICS31.200
L55
中华人民共和国国家标准
GB/T26113—2010
微
机电系统(MEMS)技术
微几何量评定总则
Micro-electromechanicalsystemtechnology—
Generalrulesfortheassessmentofmicro-geometricalparameters
2011-01-10发布 2011-10-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布前 言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。
本标准主要起草单位:中机生产力促进中心、西安交通大学、天津大学、中原工学院。
本标准主要起草人:丁红宇、张苹、刘伟、蒋庄德、景蔚萱、胡晓东、赵则祥。
ⅠGB/T26113—2010
微机电系统(MEMS)技术
微几何量评定总则
1 范围
本标准规定了微几何量的评定基本原则、评定要素、评定程序、评定方法以及评定规则。
本标准适用于企业、研究机构、检测机构等从事微机电技术及产品的研究、设计、生产、检测。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本
文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T3505 产品几何技术规范(GPS) 表面结构 轮廓法术语、定义及表面结构参数
GB/T18779.2 产品几何量技术规范(GPS) 工件与测量设备的测量检验 第2部分:测量设备
校准和产品检验中GPS测量的不确定度评定指南
GB/T26111 微机电系统(MEMS)技术 术语
3 术语和定义
GB/T3505和GB/T26111中给出的术语和定义以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
微几何要素 micro-geometricalfeature
构成微结构几何特征最基本的点、线、面。
3.2
微几何量 micro-geometricalparameter
MEMS构件的几何特征参数。
3.3
尺寸特征 featureofsize
由一定大小的线性尺寸或角度尺寸确定几何形状。
3.4
表面结构 surfacestructure
几何表面的重复性或偶然性偏差,这些偏差形成该表面的三维形貌。
3.5
表面(结构)参数 surface(structure)parameter
表示表面微观几何特性的参数。
3.6
形状特征 characteristicofform
单一实际要素的形状所允许的变动全量。
1GB/T26113—2010
3.7
位置特征 characteristicofposition
实际要素的方向或位置相对于基准所允许的变动全量。
4 评定基本原则
4.1 冗余原则
任何测量系统都存在误差,当通过减小阿贝误差、热变形等方法不能提高测量精度时,要考虑采用
冗余测量,如测量次数的增加、测量方式的改变、测量传感器数量的增加等来提高测量精度。
———微几何量评定宜遵从冗余原则。
———当采用冗余原则时,应合理设计冗余度。
———在测量过程中,可利用冗余对测量信息进行诊断,剔除粗大误差。
4.2 测量特征参数原则
测量实际要素上具有代表性的参数-特征参数,用这些特征参数的差异来表示被测实际要素的相应
误差。
5 评定要素
微几何量主要是反映特征尺寸在微米级别的MEMS结构的尺寸和质量特征。微几何量评定要素
(见表1)主要包括:尺寸特征、形位特征、表面结构特征等三类。
表1 评定要素分类关系
类 别 评定要素
尺寸特征尺寸
半径
角度
距离
形位特征直线度
圆度
平面度
平行度
垂直度
倾斜度
同心度
位置度
对称度
表面结构特征原始轮廓
粗糙度轮廓
波纹度轮廓
表面缺陷
2GB/T26113—2010
6 评定程序
微几何量评定的基本程序(见图1)如下:
1) 根据评定要素确定测量任务,对于不能直接进行测量的评定要素,可以通过计算转化等方法采
用间接测量方法进行。
2) 根据可行性和现有条件,确定合适的测量方法(框2);
3) 根据测量方法,明确测量步骤,进行测量(框3);
4) 按照所选方法确定测量次数,将测量数据(框4)进行误差分析及误差处理(框5),如需要进行
相应计算转化才能得到评定要素,则按照给定的计算方法进行计算(框6)得到计算结果;
5) 根据测量过程等因素,进行测量不确定度概算(框7);
6) 选定合适的评定规则、评定指标对处理后的测量结果进行评定(框8),得出评定结论(框9)。
图1 微几何量评定程序流程图
7 测量样品
凡使用的测量样品需给出测量样品规范。测量样品规范应包括样品的结构几何特征尺寸、表面特
征等对测量样品特征进行描述的文字(如需要可以加图形进行描述),确保使用者可以明确测量样品的
结构特征。
8 测量方法
8.1 测量方法概述
微几何量评定要素可采用测量方法主要有:光学显微视觉测量法、扫描电子显微镜测量法、接触式
探针轮廓测量法、光学探针轮廓测量法、光学干涉显微测量法、扫描探针显微镜测量法、椭圆偏振膜厚测
量法、光反射膜厚测量法等(参见附录A)。
表2 测量方法与评定要素对应表
测量方法
评定要素 光学显
微视觉
测量法扫描电
子显微
镜测量法接触式
探针轮
廓测量法光学探
针轮廓
测量法光学显
微干涉
测量法扫描探
针显微
镜测量法椭圆偏
振膜厚
测量法光反射
膜厚测
量法
尺寸 √ √ √ √ √ √ ○ ○
半径 √ √ √ √ √ √ ○ ○
距离 ○ ○ √ √ √ √ √ √
3GB/T26113—2010
表2(续)
测量方法
评定要素 光学显
微视觉
测量法扫描电
子显微
镜测量法接触式
探针轮
廓测量法光学探
针轮廓
测量法光学显
微干涉
测量法扫描探
针显微
镜测量法椭圆偏
振膜厚
测量法光反射
膜厚测
量法
角度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
直线度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
圆度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
平面度 ○ ○ √ √ √ √ ○ ○
平行度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
垂直度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
倾斜度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
位置度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
同心度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
对称度 √ √ √ √ √ √ ○ ○
原始表面轮廓 ○ ○ √ √ √ √ ○ ○
粗糙度轮廓 ○ ○ √ √ √ √ ○ ○
波纹度轮廓 ○ ○ √ √ √ √ ○ ○
表面缺陷 √ √ √ √ √ √ ○ ○
注1:√表示测量方法可用于此评定要素的测量,○表示测量方法不可用于此评定要素的测量。
注2:光学显微视觉测量法和扫描电子显微镜测量法属于2维测量,只能对平面的2维几何量特征要素进行
评定。
注3:接触式探针轮廓测量法、光学探针轮廓测量法、光学干涉显微测量法、扫描探针显微镜测量法属于2.5维测
量,微结构侧壁轮廓的测量还不能很好的实现,应用于3维几何量特征要素的评定有一定的限制条件。
注4:椭圆偏振膜厚测量法和光反射膜厚测量法只适用于薄膜厚度的测量,对应于“距离”评定要素。
8.2 测量条件
需给出明确的测量条件(如测量环境、仪器等)。
凡所使用的测量仪器和设备需经国家计量部门校准,且仪器须在校准期内使用。
9 测量数据处理
9.1 测量误差的类型
对测量结果应进行误差分析。按它们在测量结果中出现的规律,误差可分为系统误差、随机误差和
粗大误差、漂移等。
———系统误差:在重复条件下,对同一被测量进行无限多次测量所得结果的平均值与被测量的真值
之差,称为系统误差。
———随机误差:在可重复条件下,对同一被测量进行无限多次测量所得结果的平均值之差,称为随
机误差。
4GB/T26113—2010
GB-T 26113-2010 微机电系统 MEMS 技术 微几何量评定总则
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